Страна изготовитель - Япония
Производитель - Shimadzu corporation
Марка - Shimadzu DSC-60
Год - 2007
Назначение:
Основные характеристики:
Температурный диапазон |
-150 до 600ºС |
Диапазон тепловой мощности |
±40 мВт |
Программируемые шаги |
0-99 ºK/мин (ºK/час) |
Время удержания температуры |
0-999 мин (час) |
Время охлаждения |
Около 6 мин от 600ºС до 40ºС используя жидкий |
Уровень шума |
31 мкВт |
Атмосфера |
Инертный газ или воздух |
Количество образцов |
1 образец |
Габариты |
Ш:300 x Г:490 x В:290 мм |
Область применения в наноиндустрии:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Bruker
Марка - Bruker ADVANCE 400 МГц
Год - 2007
Назначение:
Возможности:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Bruker
Марка - Bruker D8 ADVANCE
Год - 2007
Назначение:
Возможные исследования:
Методы исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Bruker
Марка - Bruker Vertex 70
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: ИК - КР спектрометр
Назначение:
Методы исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - Япония
Производитель - Shimadzu corporation
Марка - ICPE-9000
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Атомно-эмиссионный спектрометр с индуктивно связанной плазмой.
Назначение:
Возможные исследований:
Методы исследований:
Основные характеристики:
Программное обеспечение ICPEsolution обеспечивает:
Технические характеристики
Плазменный источник излучения | |
Блок горелки |
Аксиальное наблюдение (опционно: двойной обзор |
Распылительная камера |
Циклонного типа |
Горелка |
Вертикально расположенная мини-горелка и обычная |
Распылитель |
С коаксиальным наблюдением |
ВЧ-генератор |
|
Осциллятор |
Кристаллический |
Частота |
27,12 МГц |
Мощность |
До 1,6 кВт |
Стабильность |
Не хуже 0,3% |
ВЧ-блок |
Транзисторный |
Поджиг |
Автоматический |
Настройка |
Автоматическая |
Спектральный блок |
|
Оптическая схема |
Эшелле-спектрометр |
Спектральный диапазон |
167 - 800 нм |
Детектор |
2-мерный полупроводниковый (ССD), |
Разрешение |
Не хуже 0,005 нм (при 200 нм) |
Тип спектрального блока |
Вакуумный, термостатируемый |
|
|
Размеры |
1350 x 760 x 740 мм (Ш х Г х В) |
Вес |
270 кг |
Область применения:
Страна изготовитель - Япония
Производитель - Shimadzu corporation
Марка - EDX-800HS
Год - 2008
Назначение:
Методы исследований:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - США
Производитель - Applied Biosystems
Марка - 3130 XL
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Генетический анализатор (секвенатор) ДНК
Назначение:
Возможные исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - США
Производитель - Agilent
Марка - Agilent 7890А
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Газовый хроматограф
Назначение:
Область применения в наноиндустрии:
Страна изготовитель - Япония
Производитель - Shimadzu corporation
Марка - LC-20AD
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Жидкостный хроматограф - МСД
Назначение:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - США
Производитель - Abbot
Марка - Cell Dyn 3700
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Гематологический анализатор
Назначение:
Возможные исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - США
Производитель - Agilent
Марка - Agilent 2100
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Биоанализатор для анализа нуклеиновых кислот и белков.
Назначение:
Возможные исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - США
Производитель - ISS
Марка - ISS PC-1
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Поляризационный спектрофлуориметр
Назначение:
Область применения:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - Observer D1m
Год - 2007
Оптический инвертированный универсальный металлографический микроскоп. Общее увеличение 12,5-3200х.
Методы исследования:
Области применения:
Участок поверхности кремния
Страна изготовитель - США
Производитель - Бектон Дикинсон
Марка - BD FACSCalibu
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Проточный цитофлуориметр
Назначение:
Возможные исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - Россия
Производитель - NT-MDT
Марка - IntegraTOMO
Год - 2007
Методы исследования:
На воздухе:
В жидкости:
Области применения:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss MicroImaging GmbH
Марка - LSM 510 Meta
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Конфокальный микроскоп
Назначение:
Возможные исследования:
Методы исследования:
Основные характеристики:
Область применения:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - LSM 510 DUO
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Конфокальный микроскоп
Модуль LSM 510 META.
Многофункциональный лазерный сканирующий микроскоп для исследовательских задач, и работы с живыми биологическими объектами.
LSM 5 LIVE DuoScan.
Уникальный ультрабыстрый лазерный сканирующий микроскоп с индивидуальным лазерным манипулятором (DuoScan) для регистрации быстродействующих процессов в режиме «живого» конфокального изображения.
Лазеры с предустановленными, заранее отъюстированными световодами (Pigtail-coupled)
Области применения
Микроскоп позволяет получить качественное информативное изображение
фиксированных объектов, окрашенных флуоресцентными красителями.
Восстановить трехмерную структуру объекта по сериям конфокальных оптических срезов.
Позволяет наблюдать и документировать динамические процессы в живых системах.
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - Carl Zeiss Ultra 55+
Год - 2009
Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ
Основные характеристики
Пространственное раз- | 1.0 нм при 15 кВ |
Диапазон увеличений | 12х – 900 000х в режиме вторичных электронов |
Источник электронов | Автоэмиссионный (термоэмиссионного типа). |
Диапазон ускоряющих | 100 В – 30 000 В |
Диапазон рабочих | 4 пА – 20 нА |
Встроенные детекторы | 1) EsB с сеточным фильтром (напряжения на сетке 0 - 1500В) |
Детекторы и приставки:
Методы исследования:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - Carl Zeiss EVO 60
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ
Основные характеристики
Пространственное разрешение |
|
Диапазон ускоряющих напря-
| 3.0 нм (2 нм) при 30 кВ – SE режим и W (катод |
4.5 нм при 30 кВ – BSD (в режиме VP); | |
15 нм при 30 кВ – 1 нА, катод LaB6 – гексаборид | |
20 нм (15нм) при 1кВ SE режим и W (катод | |
10 нм при 3 кВ – SE режим. | |
0.2 – 30 кВ | |
Диапазон увеличений | 5х – 1 000 000х |
Встроенные детекторы | BSD детектор |
Детекторы и приставки:
Методы исследования:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - Carl Zeiss CrossBeam 1540XB
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: СЭМ
Основный технические характеристики
| SEM | FIB |
Пространственное | Колонна Gemini | Колонна SIINT 100 mm zeta |
Диапазон увеличений | До 900 000x | До 500 000x |
Диапазон рабочих токов | 4 пA - 20 нA | < 0.1 пA - 45 нA |
Диапазон ускоряющих | 0.1 - 30 кВ | 5 - 30 кВ |
Источник электронов/ | Автоэмиссионный | Автоэмиссионный Ga (LMIS) |
Встроенные детекторы | Внутриколонный: EsB детектор обратно рассеянных электронов с сеточным фильтром (напряжение на сетке 0 – 1500В) |
Детекторы и приставки:
Методы исследования:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Carl Zeiss
Марка - Libra 200FE
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: ПЭМ
LIBRA 200FE Основные характеристики
Диапазон | 120 кВ - 200 кВ | ||||||||||||
Система | Передовая система освещения образца по Кёлеру | ||||||||||||
Линзы объектива | Симметричный тип
| ||||||||||||
Спектрометр | Встроенный в колонну, полностью фабрично сьюстированный и настроенный ОМЕГА-типа | ||||||||||||
Рабочий столик | Полностью эвцентрический гониометр с 5 степенями свободы; | ||||||||||||
Обработка | Проектор состоит из двух групп (по 3 линзы в каждой), одна из которых находится перед | ||||||||||||
Увеличение | Просвечивающая электронная микроскопия (TEM): 8x - 1,000,000x | ||||||||||||
Режимы | TEM - просвечивающая электронная микроскопия |
Детекторы и приставки:
Держатели образцов:
Методы исследования:
Области применения прибора Carl Zeiss Libra 200 FE
Страна изготовитель - Германия
Производитель - SUSS MicroTec
Марка - PM5
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: зондовая станция PM5
Назначение:
Возможные исследования:
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Россия
Производитель - НТМ-ДТ
Марка - Ntegra Spectra
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Сканирующий микроскоп НТЕГРА Спектра.
Назначение: Исследование топологии и элементный состав поверхности.
Возможные исследования:
Методы исследования:
Основные характеристики:
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Россия
Производитель - НТМ-ДТ
Марка - NtegraAura
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Сканирующий зондовый микроскоп
Назначение:
Исследование рельефа поверхности и магнитной структуры широкого спектра материалов, в том числе и наноструктур.
Дополнительные комплектующие:
Основные характеристики: Измерения в условиях вакуума до 10-2 Торр.
Методики имерений:
На воздухе:
В жидкости:
ИЗМЕРЯЕМЫЙ ПАРАМЕТР* Толщина
ЕДИНИЦА ИЗМЕРЕНИЯ* Нм
Количество измерений: * 30
Загрузка (час.) * 150
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Великобритания
Производитель - Oxford Instrument NanoScience
Марка - NanoMOKE
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Магнитооптический магнитометр
Назначение: Определение характеристик массива наноразмерных магнитных кластеров.
Измеряемые параметры:
Основные характеристики:
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - США
Производитель - Quantum Design
Марка - MPMS XL-5
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: СКВИД магнетометр
Назначение: Изучение магнитных свойств наноструктур (квантовых точек, квантовых проволок, атомарных слоев), биологических объектов, геологических пород.
Возможные исследования:
Измеряемые параметры:
Основные характеристики:
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Omicron Nanotechnology
Марка - Omicron
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Сверхвысоковакуумная установка для получения тонких пленок.
Назначение: Получение тонких поликристаллических металлических пленок толщиной до 200 нм.
Основные характеристики:
Система контроля толщины пленки на основе кварцевого датчика
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Omicron Nanotechnology
Марка - Omicron
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: Сверхвысоковакуумная напылительная система с магнетронными источниками
Назначение:
Методы исследования:
Основные характеристики
Вакуумная система:
Магнетронные источники:
Держатель для крепления подложек:
Система управления напуском газа:
Система контроля толщины пленки:
Область применения: Наноэлектроника.
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Omicron Nanotechnology
Марка - Omicron
Год - 2007
Сокращенное наименование единицы оборудования: СВВ комплекс «Омикрон»
Назначение: получение наноструктур с помощью молекулярно-лучевых испарителей, эффузионных ячеек, а также их исследования методами атомной силовой и туннельной микроскопиями, спектроскопии характеристических потерь энергии электронами, дифракции быстрых электронов и др.
Возможные исследования:
Методы исследования:
Основные характеристики:
Оборудование напылительной камеры:
Электронно-лучевой испаритель (предназначен для субмонослойного и мультислойного роста тонких пленок с автоматизированным процессом управления);
Высокотемпературная эффузионная ячейка:
Низкотемпературная эффузионная ячейка:
Система RHEED 20 (дифракция быстрых электронов):
Система контроля толщины пленки на сонове кварцевого датчика.
Оборудование аналитической камеры:
Сканирующий зондовый микроскоп XA 50/500:
Полусферический электронный спектрометр EA 125 U7/1 (методы исследования: XPS, AES, UPS, ISS)
Сфокусированный ионный источник ISE 100:
Квадрупольный масс-спектрометр Microvision plus 100D:
Страна изготовитель - Великобритания
Производитель - Oxford Instruments
Марка - Рlasmalab 80 Plus
Год - 2009
Страна изготовитель - Германия
Производитель - SUSS MicroTec
Марка - MJB-4
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Оптическая литография
Назначение:
Возможные исследования:
Основные характеристики:
Страна изготовитель - Германия
Производитель - Raith
Марка - EBL E-line
Год - 2008
Сокращенное наименование единицы оборудования: Электронный литография
Назначение:
Возможности:
Методы нанесения элементов наноструктур и наноматериалов
Управляемые методы формирования наноструктур
Методы и методики диагностики и исследования наноструктур и наноматериалов
Область применения: наноэлектроника.